Gesichtsmaske Perfecta Mochi Barrier Repair

Die Gesichtsmaske Perfecta Mochi Barrier Repair wurde entwickelt, um die Haut intensiv zu regenerieren und mit Feuchtigkeit zu versorgen. Sie verfügt über cremige Textur und sorgfältig ausgewählte Inhaltsstoffe, die sofortige Linderung und eine Verbesserung des Hautkomforts bieten.

• Reiskleie: Hilft dabei, die Haut zu glätten und die natürliche Weichheit wiederherzustellen.
• Sheabutter: Spendet Feuchtigkeit und pflegt die Haut, indem sie eine schützende Barriere bildet, die den Feuchtigkeitsverlust verhindert.
• Squalan: Regeneriert die lipidhaltige Schutzschicht der Haut und bietet tiefenwirksame Feuchtigkeit sowie Weichheit.
• Cupuacu-Butter: Wirkt als natürlicher Emollient, spendet Feuchtigkeit und macht die Haut geschmeidig.

Die Maske beruhigt Rötungen und ein Spannungsgefühl und bietet sofortige Linderung bei empfindlicher Haut. Sie ist für alle Hauttypen geeignet.

Anwendungshinweise: Für beste Ergebnisse die Maske auf sauberer Haut im Gesicht, am Hals und Dekolleté auftragen. Nach etwa 15 Minuten mit einem in Wasser getränkten Wattepad entfernen. Es wird empfohlen, die Maske 1-2 Mal pro Woche zu verwenden.

Inhaltsstoffe (INCI): Aqua, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Cetearyl Alcohol, Triolein, Squalane, Butyrospermum Parkii Butter, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Theobroma Grandiflorum Seed Butter, Cetearyl Glucoside, Oryza Sativa Starch, Pullulan, Glycine Soja Oil Unsaponifiables, Glyceryl Dioleate, Ascorbyl Palmitate, Glycine Soja Oil, Behenyl Alcohol, Caprylic/Capric/Myristic/Stearic Triglyceride, Propylene Glycol, Sodium Hydroxide, Hydroxyacetophenone, Phenoxyethanol, Octadecyl Di-T-Butyl-4-Hydroxyhydrocinnamate, Disodium EDTA, Linalool, Limonene, Citrus Aurantium Peel Oil, Benzyl Salicylate, Tetramethyl Acetyloctahydronaphthalenes, Citronellol, Linalyl Acetate, Pogostemon Cablin Oil, Parfum, CI 19140.